首页
关于我们
企业简介
企业文化
产品中心
氯硅烷
不饱和烃硅烷
氮硅烷
烷氧基硅烷
含氢硅烷
含氟硅烷
杂环硅烷
其他硅烷
芳香烃硅烷
POSS硅烷
新闻资讯
公司新闻
行业资讯
人才招聘
联系我们
联系方式
在线留言
您所在的位置:
首页
> 新闻资讯 > 行业资讯
LCMS中常见的离子片段峰
发表时间:
2022-12-05
阅读次数: 字体:【
大
中
小
】
常见的离子片段
正模式
原因
M+14
在LCMS中羧酸与甲醇成酯,或其他多一个碳的情况
M+18
加NH4
M+19
水合
M+23
加钠离子
M+33
加甲醇
M+39
加钾离子
M+42
加乙腈
M+64
加乙腈加钠离子
2M+1
二聚+氢离子,倍峰
2M+23
二聚+钠离子
一系列相差42的峰
可能为石蜡油污染
一系列相差44的峰
可能为聚乙二醇污染
M-16
脱掉NH3
M-17
脱水
M-44
羧酸和含Cbz的分子常见,重排后脱CO2
M-56
含Boc的分子常见,脱叔丁基
M-100
含Boc的分子常见,脱Boc
(M+2)/2
分子络合两个氢离子,半峰
负模式
原因
M-1
[M-H]-
M+X
[M+X]-, X=溶剂或缓冲溶液的阴离子
M+S-1
[M+S-H]-, S=溶剂
2022-12-5 摘自 有机合成公众号
上一篇:
有机硅近期资讯
下一篇:
有机硅近期资讯
新闻资讯
公司新闻
行业资讯
Search
Need Help?
Contact Us.
山东省济南市历下区旅游路22766号黄金99生活广场3号楼816室
0531-88580030
定制合成
联系我们
关于我们
产品中心
新闻资讯
Copyright © 2022 -
济南实成有机硅科技有限公司 All Rights Reserved. 备案号:
鲁ICP备2022012860号
技术支持:
腾云建站仅向商家提供技术
网站地图